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    一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板-具体实施方式

    时间:2020-11-24   访问量:35

    [0016] 为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

    基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

    一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板-具体实施方式


    [0017] 实施例1:

    [0018] 一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板,包括氟碳铝单板基底、Ni-P化学镀中间层、BN薄膜,氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金,制得Ni-P化学镀中间层,再采用射频磁控溅射法在Ni-P化学镀中间层表面沉积一层5μm的BN薄膜。

    [0019] 氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金的工艺包括如下步骤:

    将氟碳铝单板基底进行脱脂、水洗;

    将Ni-P化学镀液的pH调整为5,加热至75℃,在该温度下向镀液中加入氟碳铝单板基底,搅拌3h;

    取出氟碳铝单板基底,干燥,在160℃下进行热处理10h;最后进行水洗、烘干。


    [0020] 上述化学镀Ni-P合金中所用的Ni-P化学镀液的配方为:硫酸镍27g/L、次亚磷酸钠17g/L、碳酸钠3g/L、环己六醇六磷酸脂11g/L、柠檬酸三钠13g/L、十二烷基苯磺酸钠4g/L。

    [0021] 实施例2:

    [0022] 一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板,包括氟碳铝单板基底、Ni-P化学镀中间层、BN薄膜,氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金,制得Ni-P化学镀中间层,再采用射频磁控溅射法在Ni-P化学镀中间层表面沉积一层4μm的BN薄膜。

     

    [0023] 氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金的工艺包括如下步骤:将氟碳铝单板基底进行脱脂、水洗;

    将Ni-P化学镀液的pH调整为5 .5,加热至80℃,在该温度下向镀液中加入氟碳铝单板基底,搅拌3h;

    取出氟碳铝单板基底,干燥,在150℃下进行热处理7h;最后进行水洗、烘干。

    说 明 书 2/3 页

    4CN 108004542 B4

    [0024] 上述化学镀Ni-P合金中所用的Ni-P化学镀液的配方为:硫酸镍30g/L、次亚磷酸钠15g/L、碳酸钠5g/L、环己六醇六磷酸脂12g/L、柠檬酸三钠14g/L、十二烷基苯磺酸钠5g/L。

    [0025] 实施例3:

    [0026] 一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板,包括氟碳铝单板基底、Ni-P化学镀中间层、BN薄膜,氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金,制得Ni-P化学镀中间层,再采用射频磁控溅射法在Ni-P化学镀中间层表面沉积一层6μm的BN薄膜。

    [0027] 氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金的工艺包括如下步骤:

    将氟碳铝单板基底进行脱脂、水洗;

    将Ni-P化学镀液的pH调整为4,加热至70℃,在该温度下向镀液中加入氟碳铝单板基底,搅拌2h;

    取出氟碳铝单板基底,干燥,在170℃下进行热处理10h;最后进行水洗、烘干。


    [0028] 上述化学镀Ni-P合金中所用的Ni-P化学镀液的配方为:硫酸镍25g/L、次亚磷酸钠13g/L、碳酸钠3g/L、环己六醇六磷酸脂15g/L、柠檬酸三钠10g/L、十二烷基苯磺酸钠3g/L。

    [0029] 实施例4:

    [0030] 一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板,包括氟碳铝单板基底、Ni-P化学镀中间层、BN薄膜,氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金,制得Ni-P化学镀中间层,再采用射频磁控溅射法在Ni-P化学镀中间层表面沉积一层3μm的BN薄膜。


    [0031] 氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金的工艺包括如下步骤:

    将氟碳铝单板基底进行脱脂、水洗;

    将Ni-P化学镀液的pH调整为5,加热至75℃,在该温度下向镀液中加入氟碳铝单板基底,搅拌2 .5h;

    取出氟碳铝单板基底,干燥,在160℃下进行热处理80h;最后进行水洗、烘干。


    [0032] 上述化学镀Ni-P合金中所用的Ni-P化学镀液的配方为:硫酸镍28g/L、次亚磷酸钠18g/L、碳酸钠1g/L、环己六醇六磷酸脂10g/L、柠檬酸三钠12g/L、十二烷基苯磺酸钠6g/L。

    [0033] 实施例5:

    [0034] 一种表面沉积BN薄膜的氟碳铝单板,包括氟碳铝单板基底、Ni-P化学镀中间层、BN薄膜,氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金,制得Ni-P化学镀中间层,再采用射频磁控溅射法在Ni-P化学镀中间层表面沉积一层3μm的BN薄膜。

    [0035] 氟碳铝单板基底表面化学镀Ni-P合金的工艺包括如下步骤:

    将氟碳铝单板基底进行脱脂、水洗;

    将Ni-P化学镀液的pH调整为5,加热至75℃,在该温度下向镀液中加入氟碳铝单板基底,搅拌2h;

    取出氟碳铝单板基底,干燥,在165℃下进行热处理8h;

    最后进行水洗、烘干。


    [0036] 上述化学镀Ni-P合金中所用的Ni-P化学镀液的配方为:硫酸镍25g/L、次亚磷酸钠13g/L、碳酸钠5g/L、环己六醇六磷酸脂15g/L、柠檬酸三钠12g/L、十二烷基苯磺酸钠5g/L。

    [0037] 以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;

    尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:

    其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;

    而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

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